دانشگاه آزاد اسلامی واحد تهران جنوب

صفحه اصلی / اولین کنفرانس ملی شیمی، نانو مواد، پلیمر- چالش ها و کاربردها

تخریب داروی مترونیدازول با سنتز فوتوکاتالیست هتروساختار CuS/NiS (تکنیک DOEمدل RSM)

نویسندگان :

بیتا فراهانی¹ مسعود گیاهی² محمد حسین قربانی³ رضا فضائلی⁴ امید مرادی⁵

1- دانشگاه آزاد اسلامی واحد تهران جنوب 2- دانشگاه آزاد اسلامی واحد تهران جنوب 3- دانشگاه آزاد اسلامی واحد تهران جنوب 4- دانشگاه آزاد اسلامی واحد تهران جنوب 5- دانشگاه آزاد اسلامی واحد تهران جنوب

کلمات کلیدی :

مترونیدازول،فوتوکاتالیست،CuS/NiS،طراحی آزمایش(RSM- سطح رویه پاسخ)

چکیده :

در این پژوهش به جهت اینکه مواد استفاده شده دارای حد و سطوح مشخص خود بودند، .به جهت طراحی آزمایش از روش RSM (سطح رویه پاسخ) استفاده شد و در روش سطح پاسخ از طرح مرکب مرکزی ( CCD) در قالب مرکز وجهی استفاده گردید. در حالت مرکز وجهی حدود بیشینه و کمینه با کد سطح‌های (1+) و (1-) مشخص می‌شوند. به این ترتیب سطح سوم به عنوان سطح صفر یا مرکزی (0)، مقداری بین کمینه و بیشینه است. پارامترهای موثر در فرایند تخریب از قبیل اثر pH، غلظت دیکلوفناک (mg/L)، غلظت مترونیدازول(mg/L)، جرم فوتوکاتالیست CuS/NiS، (g) و زمان (min) با مدل RSM مورد بررسی قرار گرفت. در شرایط بهینه با 2/0 گرم فوتوکاتالیستCuS/NiS ، و mg/L150، از داروی مترونیدازول و در pH برابر با 10 طی مدت 120 دقیقه راندمان بهینه %18/44 دارد.